“중국, ASLM 장비 없이 5나노 반도체 생산 기술 진전”

중국이 네덜란드 기업 ASLM의 최첨단 극자외선(EUV) 장비 없이 5나노 반도체를 생산하는 기술에 진전을 이뤘다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 현지시각 1일 보도했습니다.

사우스차이나모닝포스트에 따르면 해당 사안을 잘 아는 소식통은 중국 나우라테크놀로지그룹이 반도체 기판에 회로 패턴을 새겨넣는 리소그래피 시스템에 대한 연구를 지난달 시작해, 최근 예비 연구에서 진전을 이뤘다고 평가했습니다.

연구에는 화웨이가 지난달 공개한 ‘자가 정렬 4중 패턴화’(SAQP) 특허가 사용됐습니다. 트랜지스터 밀도와 반도체 성능을 높이기 위해 라인을 여러 개 그리는 기술입니다.

중국국가지식재산권국에 제출된 특허 신청서에는 이러한 기술이 회로 패턴의 디자인 자유도를 높인다고 설명돼 있습니다.

화웨이의 SAQP 기술을 사용하면 ASLM만 공급할 수 있는 EUV 리소그래피 장비 없이 ASLM과 일본 니콘이 생산하는 하위 성능의 심자외선(DUV) 장비만으로도 5나노 칩을 만들 수 있다는 겁니다.

앞서 EUV 장비 수입이 막힌 중국은 미국과 서방 국가들의 수입 통제 조치 강화를 우려해 최근 수년간 DUV 장비를 사재기해왔습니다.

[사진 출처 : 연합뉴스]