양성자로 3차원 나노 소자 패턴 구현 기술 개발

입력 2012.09.04 (11:43)

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양성자를 이용해 나노미터 크기의 패턴을 반도체에 구현할 수 있는 기술이 개발됐습니다.

홍종일 연세대 신소재공학과 교수는 여러 층으로 이뤄진 복잡한 구조물에 양성자를 조사함으로써 산소 원자만 선택적으로 제거해 3차원 나노 소자 패턴을 만드는 데 성공했습니다.

홍 교수팀은 양성자의 에너지를 조절하면 이 기술을 금속과 산화물 등 다양한 구조체에 활용할 수 있고, 기존의 반도체 패턴 제작 공정을 절반으로 줄일 수 있을 것으로 전망했습니다.

이번 연구 결과는 저명한 학술지인 '네이처 나노테크놀로지'에 실렸습니다.

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  • 양성자로 3차원 나노 소자 패턴 구현 기술 개발
    • 입력 2012-09-04 11:43:48
    IT·과학
양성자를 이용해 나노미터 크기의 패턴을 반도체에 구현할 수 있는 기술이 개발됐습니다. 홍종일 연세대 신소재공학과 교수는 여러 층으로 이뤄진 복잡한 구조물에 양성자를 조사함으로써 산소 원자만 선택적으로 제거해 3차원 나노 소자 패턴을 만드는 데 성공했습니다. 홍 교수팀은 양성자의 에너지를 조절하면 이 기술을 금속과 산화물 등 다양한 구조체에 활용할 수 있고, 기존의 반도체 패턴 제작 공정을 절반으로 줄일 수 있을 것으로 전망했습니다. 이번 연구 결과는 저명한 학술지인 '네이처 나노테크놀로지'에 실렸습니다.

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