특허청·검찰 “기술유출 범죄 양형기준 개선 추진”

[앵커]

최근 우리나라 핵심기술의 해외 유출 사건이 잇따르고 있지만 처벌은 '솜방망이' 수준에 머물고 있습니다.

기술유출사범의 집행유예 비율이 60%를 넘어서자 특허청과 검찰이 양형 기준을 손봐야 한다며 제도 개선에 나섰습니다.

박해평 기자입니다.

[리포트]

올 초, 반도체 세정 장비 핵심 기술을 중국기업에 넘긴 삼성전자 자회사 직원과 협력업체 직원 등이 검거됐습니다.

검찰은 2천억 넘게 들여 개발한 기술을 유출해 7백억 원대 부당 이익을 챙긴 혐의로 기소했고 1심 법원은 주범에게 징역 4년, 협력업체 직원 등에게 징역 2년 반을 선고했습니다.

하지만 부당 이득금은 특정할 수 없다며 추징하지 않았습니다.

최근 5년간 적발된 국내기술 해외유출 시도는 93건, 이 가운데 1/3은 '국가핵심기술'이지만 65%가 집행유예를, 35%만이 실형을 받았습니다.

지난해 기술 해외 유출 사건의 선고 형량도 평균 15개월에 그쳤습니다.

[박미랑/한남대 경찰학과 교수 : "(산업기술보호법이) 새로운 법이고 법 적용도 상당히 많이 상향 조정됐는데, 법원이 상향된 기준에 대해서 적용을 하지 않고 있는 문제가 발생하고 있는 거죠."]

솜방망이 처벌의 원인은 지나치게 낮은 '양형기준' 때문입니다.

법정형은 최고 15년으로 상향됐지만 양형기준은 절반에도 못 미치고 있습니다.

[김시형/특허청 산업재산보호협력국장 : "법정형을 대폭 상향했음에도 불구하고 법원에서 적용하는 양형기준이 아직 개정되지 않은 상태입니다."]

특허청과 검찰은 기술유출범죄의 형량을 높여야 한다며 양형기준 개선안을 제출하고 기술유출 피해 규모를 객관적으로 산정할 방안을 마련하기로 했습니다.

KBS 뉴스 박해평입니다.

촬영기자:오종훈