‘SK하이닉스·삼성전자 기술 중국 유출’ 무진전자 부사장 2심도 실형

삼성전자와 SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 빼돌려 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소된 국내 장비업체 무진전자 임직원들이 2심에서도 실형을 선고받았습니다.

서울고법 형사7부(부장판사 이재권)는 오늘(18일) 산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 무진전자 부사장 신 모 씨에게 1심보다 무거운 징역 1년 6개월을 선고했습니다.

앞서 지난해 9월 1심 재판부는 신 씨에게 징역 1년을 선고했습니다.

1심에서 징역형의 집행유예를 선고받았던 연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년∼1년 6개월의 실형으로 형이 늘었고, 무진전자는 1심의 벌금 4억 원보다 많은 벌금 10억 원을 선고받았습니다.

피고인들의 형이 늘어난 것은 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의를 1심에선 무죄로 본 반면 항소심은 유죄로 판단했기 때문입니다.

1심 재판부는 이 기술이 SK하이닉스와 협력사의 공동 소유물인 만큼 대외 발표만 금지된다고 판단했습니다.

하지만 2심 재판부는 “기술을 SK하이닉스의 경쟁업체 등 제3자에게 은밀하게 제공하려면 적어도 사전에 SK하이닉스의 동의를 얻었어야 했다”며 “비밀 유지 대상인 산업기술에 해당하고, 이를 유출한 것은 범죄”라고 봤습니다.

재판부는 “피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다”며 “특히 부사장 신 씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다”고 질타했습니다.

신 씨 등은 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 하이케이메탈게이트(HKMG) 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심 기술을 2018년부터 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의를 받습니다.

HKMG 기술은 D램 반도체 속도를 높이고, 소모 전력을 줄이기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조공정 기술입니다.

아울러 이들은 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 이산화탄소 활용 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 함께 받습니다.

검찰은 국가정보원으로부터 기술 유출 사실을 전달받아 수사를 시작했으며, 2020년 무진전자를 압수수색하고 같은 해 12월 무진전자 공장장 등을 구속기소했습니다.