유해화학물질 사용량 확 줄일 나노공정 소재 발견

입력 2014.04.01 (07:38) 수정 2014.04.01 (08:26)

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<앵커 멘트>

유해화학물질 유출 사고가 반도체 공장에서 반복됐었는데요, 이 유해화학물질 사용량을 대폭 줄일 수 있는 기술적 가능성을 국내 연구진이 처음으로 입증했습니다.

임명규 기자가 보도합니다.

<리포트>

반도체 공장에서 잇따라 발생한 불산계열 화학물질 유출 사고.

불산은 위험하지만 대체가 쉽지 않아 반도체 제작 과정에 여전히 사용되고 있습니다.

하지만 국내 연구팀이 관련 공정에 천연 물질을 사용해 결과적으로 불산 사용을 줄일 수 있는 획기적인 방법을 찾아냈습니다.

아주대 김성환 교수는 미국 터프츠 대학 오메네토 교수팀과 기존 화학 레지스트를 천연 실크로 대신할 수 있다는 점을 세계 최초로 입증했습니다.

레지스트는 반도체 웨이퍼 판에 얇게 입히는 액체 소재입니다.

<인터뷰> 교수 : "간단한 처리만으로도 물에 녹게할 수도 있고 안 녹게 할 수도 있고 이런 특성들이 알려졌고요, 전자빔이나 빛을 이용해서 그런 물성을 바꿔주면 되겠다."

누에고치를 물에 풀어 액화한 뒤 실리콘 웨이퍼에 씌우면 화학 레지스트를 대체할 수 있습니다.

이렇게 되면 얇게 형성된 막에 반도체 회로 패턴을 찍는 작업이 가능합니다.

회로 이외의 나머지 부분은 깎아내게 되는데 이 과정에서 쓰이던 벤젠이나 불산 계열 화학물질도 더 이상 필요 없습니다.

기존 유해화학물질을 썼던 것과 달리 이번에 개발된 실크 레지스트는 물로 간단히 제거할 수 있습니다.

기술적으로는 기존 화학 레지스트와 비슷한 수준까지 생산이 가능해 바로 상용화할 수 있습니다.

이번 연구 결과는 세계적인 학술지 네이처 나노테크놀로지 온라인판에 실렸습니다.

KBS 뉴스 임명규입니다.

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  • 유해화학물질 사용량 확 줄일 나노공정 소재 발견
    • 입력 2014-04-01 07:49:35
    • 수정2014-04-01 08:26:30
    뉴스광장(경인)
<앵커 멘트>

유해화학물질 유출 사고가 반도체 공장에서 반복됐었는데요, 이 유해화학물질 사용량을 대폭 줄일 수 있는 기술적 가능성을 국내 연구진이 처음으로 입증했습니다.

임명규 기자가 보도합니다.

<리포트>

반도체 공장에서 잇따라 발생한 불산계열 화학물질 유출 사고.

불산은 위험하지만 대체가 쉽지 않아 반도체 제작 과정에 여전히 사용되고 있습니다.

하지만 국내 연구팀이 관련 공정에 천연 물질을 사용해 결과적으로 불산 사용을 줄일 수 있는 획기적인 방법을 찾아냈습니다.

아주대 김성환 교수는 미국 터프츠 대학 오메네토 교수팀과 기존 화학 레지스트를 천연 실크로 대신할 수 있다는 점을 세계 최초로 입증했습니다.

레지스트는 반도체 웨이퍼 판에 얇게 입히는 액체 소재입니다.

<인터뷰> 교수 : "간단한 처리만으로도 물에 녹게할 수도 있고 안 녹게 할 수도 있고 이런 특성들이 알려졌고요, 전자빔이나 빛을 이용해서 그런 물성을 바꿔주면 되겠다."

누에고치를 물에 풀어 액화한 뒤 실리콘 웨이퍼에 씌우면 화학 레지스트를 대체할 수 있습니다.

이렇게 되면 얇게 형성된 막에 반도체 회로 패턴을 찍는 작업이 가능합니다.

회로 이외의 나머지 부분은 깎아내게 되는데 이 과정에서 쓰이던 벤젠이나 불산 계열 화학물질도 더 이상 필요 없습니다.

기존 유해화학물질을 썼던 것과 달리 이번에 개발된 실크 레지스트는 물로 간단히 제거할 수 있습니다.

기술적으로는 기존 화학 레지스트와 비슷한 수준까지 생산이 가능해 바로 상용화할 수 있습니다.

이번 연구 결과는 세계적인 학술지 네이처 나노테크놀로지 온라인판에 실렸습니다.

KBS 뉴스 임명규입니다.

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